儘管目前全球存儲器四強競局維持平衡狀態,然近期各廠投資動作頻頻,包括三星電子(Samsung Electronics)、美光(Micron)與東芝(Toshiba)為量產3D NAND Flash,紛投資建廠或以既有生產線進行轉換,SK海力士(SK Hynix)亦可能利用M10廠生產3D NAND Flash,業界預期未來3~4年內存儲器產業既有平衡競局恐將被打破。
半導體業者表示,3D NAND技術是未來存儲器產品主流,然技術層次及難度十分高,目前在製程良率上仍面臨許多挑戰,預計2016年真正順利量產的存儲器大廠只有三星,其他業者仍在全力追趕中,全球3D NAND賽局甫揭開序幕。
值得注意的是,3D NAND技術帶來突破性的成本降低,將攸關固態硬碟(SSD)市場發展,未來雲端伺服器及企業SSD應用,亟需成本降低的存儲器解決方案來驅動市場快速成長,目前看來3D NAND技術能做到大量取代傳統硬碟,讓SSD市場滲透率飛躍前進。
現階段全球存儲器產業維持四強寡占的平衡競局,但各廠檯面下投資動作暗潮洶湧,三星與SK海力士在2015年初宣布大規模的長期設備投資計劃,美光與東芝亦致力發展NAND Flash新技術,建廠計劃如火如荼進行中,業界預期存儲器產業平衡狀態可能在未來3~4年內被打破。
根據韓媒D-Daily報導,SK海力士最近宣布未來10年內將投資46兆韓元(約396億美元),興建包含利川M14在內的3個新廠,若加計維護及建物設備投資,總投資額高達75兆韓元(約645億美元)。
目前SK海力士擁有的12吋生產線有利川M10、忠北清州M11、M12及大陸無錫HC2,其中,利川與無錫廠生產DRAM,清州廠生產NAND Flash,原本M10廠負責的DRAM會移轉到M14新廠生產,M10廠20納米級DRAM產能為13萬片12吋晶圓,M14新廠產能為20萬片,未來將可視需求快速擴產,至於M10廠未來可能用來生產系統芯片、NAND Flash或做為研發設施。
三星正在京畿道平澤建設新廠,預定2017年上半啟用,第一期投資額15.6兆韓元(約134億美元),估計12吋晶圓產量可達20萬片,但生產項目仍未定;原本打算做為系統LSI廠的華城17產線,先改為生產DRAM;至於三星大陸西安NAND Flash廠首期生產規模為每月10萬片12吋晶圓。
美光在購併爾必達(Elpida)之後,將新加坡DRAM廠轉為生產NAND Flash,且致力發展3D NAND Flash,新加坡10X廠第1季開始進行量產3D NAND Flash的設備轉換,預定2016年中投入量產。至於美光與英特爾(Intel)合資公司IM Flash,則陸續購併美國與新加坡NAND Flash工廠投入營運。
另外,日廠東芝與美國SanDisk合資的3家大型NAND Flash製造廠亦陸續啟動,其中,屬於超大型工廠的晶圓五廠已完成第二階段投資開始啟動,改建為尖端生產線的晶圓二廠最近在進行測試,預估2016年完工後將擴大供應量。
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