力成科技積極自記憶體封測業務往先進封裝技術佈局,繼先前買下茂德廠房以作為實驗工廠後,轉投資公司聚成科技的新竹廠也在3月動土,預計2012年第3季裝機試產。力成董事長蔡篤恭表示,實驗工廠以開發新技術為主,包括晶圓級封裝、3D IC及銅柱凸塊等,估計開發時程約1年,屆時新竹廠正好開始啟用,新產品效益可望適時於2012~2013年發酵。 

蔡篤恭表示,2011年將面臨4項挑戰,包括營業額成長趨緩、毛利率下降;新台幣升值;主要客戶減產以應付產量過剩;產業變動太快,景氣不明確。該公司也將祭出5大對策因應,包括改進業務推廣能力、建立先進封裝技術、興建先進製程量產工廠,並期待於2012年下半加入生產行列,提升子公司聚成科技與蘇州廠的產能利用率,積極協助其提高產品製程能力與開發新客戶;加強物料採購議價能力,使材料成本合理化,具有競爭力。 

其中在建立先進封裝能力方面,蔡篤恭表示,力成先前向茂德買下廠房,該廠作為實驗工廠,以開發新技術為主,製程涵蓋銅柱凸塊、線路重布/晶圓級封裝技術、矽中介層(Si-Interposer)、矽穿孔(TSV)技術等。此外,力成子公司聚成科技位於新竹科學園區的廠房,已於2011年3月! 動土,預計2012年6月完工,第3季裝機、試產,該廠作為以晶圓級封裝與3D IC等? i封裝製程的量產工廠。 

其中銅柱凸塊方面,力成早在3年前即與IBM簽約共同開發,預計2011年第4季~2012年第1季量產,初步計劃在上述的實驗工廠,建置1萬片月產能,預計到2012年第1季可以擴增到3萬片水準。 

蔡篤恭表示,銅柱凸塊可應用在記憶體、邏輯及類比IC。以DRAM為例,目前三星電子(Samsung Electronics)所生產的GDDR5,已採用銅柱凸塊技術,以銅柱凸塊與植金凸塊相比,成本低之外,也具有低耗電、高效能、高速、尺寸小等優勢。然而在產量尚未達到經濟規模時,銅柱凸塊成本仍高於金凸塊,預計到月產能3萬片之際,應可超過損益兩平點。

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