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台積電取得跨足10納米以下先進製程最關鍵的極紫外光（EUV）機台，擺脫半導體摩爾定律可能受到的物理極限限制，成本還有再下降空間，未來將持續用來生產高通、蘋果等大客戶高階芯片。

EUV機台要價9,000萬歐元（約新台幣36億元），被譽為是「半導體設備中的鑽石」，由於造價昂貴，已豎起進入門檻。

據了解，除了台積電之外，三星、英特爾、IBM也是向艾司摩爾下單EUV機台的「大戶」，這些公司將同時取得進入10納米以下世代製程的門票，半導體業「愈高階製程愈走向寡占」的態勢更加確立。

主導EUV設備開發的艾司摩爾（ASML）亞太區技術營銷協理鄭國偉昨（3）日在台北國際半導體展（SEMICON Taiwan）開幕首日，透露相關訊息。

他表示，艾司摩爾已接獲多家半導體大廠共11台EUV訂單，首批六台已交貨，台積電在出貨名單之列。預料今年下半年到明年第1季，另五台設備也將完成交貨。

艾司摩爾這項宣布，透露先前遭遇技術瓶頸的EUV設備，克服關鍵輸出率不佳的最大瓶頸，有助半導體廠加速導入10 納米量產腳步。

設備商透露，艾司摩爾現有11台EUV訂單當中，有兩台是台積電下單，其中一台已在台積電竹科12廠安裝完畢，正進行10納米製程研發，另一台可能在明年首季於台積電中科廠裝設。台積電昨未對此置評。

業界評估，台積電有了EUV機台之後，先進製程推進腳步將更如虎添翼，甩開原本業界憂心礙於物理限制、恐無法順利導入10納米以下製程的問題，若良率提升狀況順利，有助台積電成本持續下降。

鄭國偉說，艾司摩爾有信心，協助客戶在今年底前試產10納米製程，並於2016年導入量產，後續也將著手為更先進的7納米製程做準備。

業界預期，台積電10納米製程量產之後，初期仍將承接高通、蘋果等需要更省電、更高階製程需求的移動通信芯片大客戶訂單。

艾司摩爾在開發EUV機台初期，考量相關投資龐大，對台積電、英特爾、三星提出投資邀約，希望集結各大廠的資源共同開發，三家業者隨後都同意入股。台積電在2012年10月投資8.38億歐元（約新台幣335.2億元），取得艾司摩爾5%股權。

極紫外光（EUV）機台堪稱下世代半導體設備最昂貴、體積最大的核心設備，這項設備的零組件，須透過11個架次的波音747飛機載送，才能完成最後組裝。

據了解，EUV設備機台已盡量減少晶圓進出流程，但因必須在真空環境下進行曝光，否則會讓空氣吸收紫外光而影響曝光顯影的精準度，因此整部設備體積相當龐大，必須先拆解零組件，再於晶圓廠內組裝。

半導體廠需挑高更高「超大型晶圓廠」，才能擺設EUV機台；機台搬運過程也大費周章，要11架次的波音747飛機運送。

新聞辭典》極紫外光

極紫外光（EUV）技術是次世代微影技術之一，被半導體視為跨入10納米製程以下，取代傳統浸潤式曝光（Immersion ）、進入18寸晶圓的一項重要微影技術。

浸潤式曝光機台是在光源與晶圓中間加入水的原理，使波長縮短到132納米的微影技術，EUV曝光設備是利用波長極短的紫外線，在矽基板上刻出更微細的電路圖案。

EUV售價昂貴，一台售價高達9,000萬歐元（約新台幣36億元），主力設備開發廠艾司摩爾（ASML）為降低開發風險，要求英特爾、三星及台積電以入股方式，共同參與這項先進微影技術開發。

來源： 經濟日報