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Intel已經公佈了14nm製程技術細節，馬上又開始了新的製程技術的研發工作。從近期對​​Intel院士進行的採訪中，Mark Bohr表示：“我的日常工作​​就是研究7nm。我相信，沒有EUV也能做到。”

EUV就是極紫外光刻。這十幾年來，半導體工藝雖然在不斷進步，但是核心光刻技術一直沒有實質性的突破，還是老一套，EUV就是眾望所歸的下一站，但其難度之大就連Intel也是異常吃力，結果一拖再拖，至今遙遙無期。
Intel認為，EUV技術已經來不及用於10nm，甚至7nm上都很難說，儘管很多人對此抱著很大的期望。

Bohr進一步解釋說：“我對EUV非常感興趣，真的能幫助工藝進步，部分時候還能將三四個遮罩縮減為一個，但不幸的是，它還沒有做好準備，產能和可靠性還不夠。”

Bohr沒有透露如何在沒有EUV的情況下實現10nm、7nm，不過他指出Intel 14nm在一個或多個關鍵層上使用了新的三重曝光技術。

他還表示，2015年底的時候，Intel會安排部分代工客戶體驗嚐鮮一下10nm，這也暗示新工藝產品將無法按原計劃推出，得等到2016年了。如此樂觀估計，7nm至少得2018年。