日本媒體日刊工業新聞27日報導，全球第2大NAND型快閃記憶體(NAND Flash)廠商東芝(Toshiba)將攜手半導體設備大廠Canon研發次世代半導體技術，雙方將在今年內著手研發細微化技術、目標為在2015年度量產全球最先端的15nm製程NAND Flash產品。據報導，日本半導體產業競爭力自1990年代以後就持續下滑，故東芝、Canon期望藉由「日本連合」的方式來引領技術革新腳步、提高競爭力。
報導指出，東芝、Canon將攜手研發的技術為被稱為「奈米壓印(Nanoimprint)」的次世代半導體露光技術，雙方乾部並已就上述合作一事展開協商，且併計劃於東芝的四日市工廠內導入Canon的先端製造設備以進行研發，至於研發費用的分擔等細節則預估將在今年內敲定並對外發表。
東芝正和南韓三星電子(Samsung Electrocnis)爭奪NAND Flash市佔首位寶座，東芝併計劃於今年夏天開始生產採用16-17nm製程技術的NAND Flash產品(目前最先端產品為19nm)。

來源：精實新聞

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