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應用材料公司推出 Applied Vantage Vulcan 快速升溫處理(RTP)系統，是可提升奈米級電晶體生產的先進技術。此系統大幅提昇現有的RTP技術，提供更高水準的精密度及回火程序控制，晶片製造商能降低變動程度並大幅提昇產能，生產出最具價值且最高效能的設計裝置。



晶片製造商若要達到最高晶片良率，在一整片晶圓上設計相同的電晶體應展現一致的效能。這對於 20 奈米世代（28奈米及以下）而言是一項挑戰，因為電晶體越小，對於溫度變化越敏感，然而許多邏輯晶片面積變得更大，使晶粒整體均勻度更難達到。直接輻射加熱會影響圖案化晶圓的溫度變化或「熱點」，導致電晶體的電子性能出現巨大變化，造成晶圓生產出許多低階晶片。

Vantage Vulcan 系統藉由僅在未圖案化晶圓的背面加熱，提供前所未有的溫度一致性，克服上述晶圓影響產能的溫度變化。此系統利用該公司已驗證的蜂巢式燈泡陣列，即使晶圓溫度每秒大幅升高超過 200°C，亦可控制晶粒內溫度不超過 3°C。

應用材料公司前段產品事業部副總裁兼總經理桑德拉莫摩斯(Sundar Ramamurthy)表示：「Vantage Vulcan系統代表為業界藍圖做出重要的技術延伸，也為消除溫度變化來源設立新的標竿。我們聽到了客戶的需求，開發出解決方案，以解決最艱巨的挑戰之一。領導業界的晶片製造商也十分認可我們Vantage Vulcan新系統的優勢。」

除了是第一個從晶圓背面進行整體加熱的 RTP 系統之外，Vantage Vulcan系統的精密閉合迴路控制系統具有獨特功能，可將晶圓從室溫加熱至 1,300°C，溫度範圍為所有單晶圓 RTP系統之冠。這項突破性的功能可生產任何晶圓（包括具挑戰性的反射性表面晶圓），而且無需改變製造參數，這對於高度混合、快速成長的晶圓代工廠而言極為重要，同時可簡化新材料與新電晶體架構的整合。

應用材料公司在溫度控制方面擁有專業技術，是RTP技術的先鋒，也是市場領導者。應用材料公司已為全球客戶安裝超過 1,000台RTP系統，使得RTP技術成為過去十年來業界製造先進微晶片的最佳選擇。