細胞對周邊電路(以下簡稱上圍Cell)的構造由美光美光(Micron)與英特爾(英特爾)陣營開發,採用將三維NAND閃存晶胞(Cell)的陣列堆疊在周邊電路的CMOS邏輯IC上的方式,以縮減採3D NAND閃存解決方案的晶片面積.DIGITIMES研究觀察,三星電子(三星電子)已提出類似此一構造的COP(細胞在圍)方案,將有利整合元件廠(集成設備製造商; IDM)三星,東芝(東芝)提升其3D NAND Flash的競爭力。

然而,在圍細胞構造將原先在不同制程製作的3D NAND NAND閃存經高溫制程後,恐因高溫而破壞下方CMOS電路,將影響良率。

由於三星同時生產三維NAND閃存與邏輯電路,如對細胞 處理器; AP)訂單的優勢,而東芝半導體事業涵蓋3D NAND閃存與系統LSI,美光與英特爾陣營亦可結合雙方的三維NAND閃存與CPU,運用上圍構造細胞,有助其提升3D NAND Flash的競爭力。

另外,3D NAND閃存若引進上圍構造單元,由於在形成周邊區域後,需經過化學機械研磨(化學機械拋光; CMP)制程使之平坦化,才能於其上形成三維NAND閃存晶胞陣列,將使得CMP制程的重要性提高。

 

美光與英特爾陣營於3D NAND閃存所開發的上圍細胞構造
資料來源:美光,英特爾,南韓NH投資證券,DIGITIMES整理,六分之二千○十六

 



原文網址: Research - Cell on Peri構造有利IDM提升3D NAND Flash競爭力 然良率與成本問題待解決 http://www.digitimes.com.tw/tw/rpt/rpt_show.asp?cnlid=3&v=20160704-164&n=1&wpidx=8#ixzz4ElbHEKeW

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