針對荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾(ASML Holdings NV)售出15台極紫外光(EUV)微影系統給一家神秘美國買家的新聞，業界分析師們分別提出了不同的反應與看法。雖然很少有人懷疑英特爾(Intel)就是買家，但這項交易的條款以及EUV是否為半導體製造準備就緒等細節仍不明朗。
EUV微影技術雖然已經用了幾十年了，由於存在光源不足的缺陷，至今仍無法提供製造先進晶片所需的良率與產能。ASML長久以來已經在這方面發佈了幾次重要的系統升級，但最近的進展仍遠低於生產目標。
就在去年秋天的英特爾開發者論壇(IDF)上，英特爾院士Mark Bohr表示，EUV「尚未準備就緒，其產能與可靠性都還未能到位。」
Mark Bohr當時表示，英特爾正著眼於一種無需使用EUV的方法，能夠在更具成本效益的前提下製造7nm晶片。他稍早前即針對10nm製程發表相同的看法，不過，該公司尚未對於7nm與10nm製程節點透露更多細節。
有的分析師認為英特爾就是ASML新聞發佈中所提到的美國現有客戶。不過，根據另一位分析師推測，這會是一項長期的交易，因為在15台EUV系統中有10台要到2017年以後才能出貨。
其他分析師也採取更樂觀的看法。「對於英特爾來說，要在10nm節點利用EUV為時已晚，目前的時機似乎更適合用於7nm，」Real World Technologies首席分析師David Kanter表示。
「這是對於ASML投下信心的一票，從這項訂單的規模可看出，EUV即將進入大量生產；以往的交易通常只買一兩台機器，主要用於實驗目的，」Kanter說，「而英特爾購買EUV可望促進其他競爭對手如三星(Samsung)、Globalfoundries與台積電(TSMC)在不久的將來儘快進行系統升級，」他補充說。
然而，Kanter提醒，實際的銷售交易仍然取決於EUV是否能符合性能目標。此外，他並補充說，EUV系統能否達到記憶體製造商更嚴峻的成本目標，一切也還是個未知數。
今年稍早，台積電宣佈採用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統，在24小時內曝光1,000片晶圓。該公司預計在7m製程節點時使用EUV，但在10nm生產開始後也將嘗試導入於其10nm製程中。這項新的EUV交易顯示英特爾可能也打算採取類似的計劃。
無疑地，EUV是業界主要的候選技術，它能夠避免當今193nm浸潤式微影系統利用多種圖形化步驟帶來的高成本。然而，除了與光源有關的問題以外，EUV仍然面臨光阻劑、光罩偵測、密度與防護膜等障礙。
編譯：Susan Hong
(參考原文：EUV Deal Raises Questions，by Rick Merritt)
資料來源:電子工程專輯
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